De gepulseerde Systemen van het Laserdeposito PLD sputteren Doel voor het Magnetron Sputterende Systemen van gelijkstroom rf

Sputter Doel voor de Gepulseerde systemen van het Laserdeposito (PLD) en het Magnetron Sputterende Systemen van gelijkstroom of rf-

Wij verstrekken een brede waaier van doel met inbegrip van Metaal, Legering, Zeldzame aarde, Enig kristal, Samenstelling sputtert, en divers ceramisch doel, zoals Oxyde, Nitride, Carbide, Boride, Sulfide, Selenide en Telluride doel sputtert. Wij verstrekken een volledige lijn van het sputteren van doelmaterialen geschikt voor de Gepulseerde systemen van het Laserdeposito (PLD) en kunnen de het Magnetron Sputterende Systemen van gelijkstroom of rf-, Deze doelstellingen worden vervaardigd om alle sputterende systemen met inbegrip van rond, rechthoekig, s-Kanon, Delta, en Ring te passen. Sputter doel kan in ronde of vierkante vorm, met achterplaat of zonder achterplaat depands op het sputterende systeem en doelmateriaal worden vervaardigd u, onze standaardgrootte van 1“ aan 12 „in diameter, diktewaaier van 1 mm, 3 mm aan 6 mm, in enige of veelvoudig-stukbouw hebt. Bovendien kunnen wij ontworpen douanespecificaties aan uw unieke behoeften met inbegrip van, afmeting, dikte, zuiverheid, dichtheid, eenvormige korrelgrootte, samenstellingstarief, en verschillende achterplaat aanbieden. Wij hebben divers doelstellingen in voorraad sputteren en kunnen aan uw specificatie met goede kwaliteit machinaal bewerken. Contacteer ons voor meer informatie.

Productspecificatie